VeraFlex III XF ---X射線光電子光譜分析系統 (XPS)

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VeraFlex III XF ---X射線光電子光譜分析系統 (XPS):
 

設備簡介

1.Nova是半導體業界領先的專注于薄膜量測分析設備供應商,提供超高分辨率XPS+XRF in-line量測系統
2.VeraFlexIII+ XF是第四代超高分辨率XPS(X-Ray光電子光譜分析系統),用于超薄膜成分及厚度量測以達到薄膜工藝質量控制
 

應用及特點

  • 應用于控片,產品片(薄膜組分及厚度直接測量,在線工藝控制)
  • POR(業界必備標準測量設備):SiON,HKMG,FinFET,DRAM,VNAND, MRAM,PCRAM
  • 超高分辨率(Sub-A),直接測量方式量測薄膜材料組分及薄膜厚度
  • 適用于90nm~5nm 任何技術節點。
  • 可同時使用XPS+XRF 測量不同厚度且多層薄膜結構

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