KLA Candela 900 / 920表面缺陷及EPI外延缺陷檢測設備
KLA Candela 900 / 920表面缺陷及EPI外延缺陷檢測設備
應用
◆ 適用于Si硅片及GaN外延片，SiC基片及SiC外延片表面缺陷及EPI外延缺陷的檢測分析，包含微粒、劃傷、坑點、污染、痕跡，同時也可以添加PL功能用以檢測某些GaN EPI缺陷及SiC EPI缺陷。該設備可以兼容透明片和不透明片。
主要功能
◆ KLA-Tencor Candela 900 / 920表面缺陷及EPI外延缺陷檢測設備是針對化合物半導體行業（Si硅片及GaN外延片，SiC基片及SiC外延片）的缺陷的檢查分析儀器。該設備利用激光掃描樣品的整個表面，通過4個頻道（散射光頻道、反射光頻道、相移頻道及Z頻道）的探測器所收集到的信號，快速的將缺陷（包括微粒、劃傷、坑點、污染、痕跡等）進行分類，統計每一種缺陷的數量并且量測出相應的缺陷尺寸，最后給出整個表面的缺陷分布圖以及檢測報告。根據預先設定的標準，可以給出檢測樣品合格與否的判斷。同時可以添加的PL功能可以針對化合物外延材料進行高精度的外延缺陷檢測，在化合物外延領域擁有很高的市場占有率。
主要特點
◆ 標準夾具從2英寸到8英寸的樣品，也可按需訂制方片和碎片夾具；
◆ 可用于不透明及透明的材料的表面缺陷檢測；
◆ 可偵測的缺陷類型：顆粒，劃傷，突起，凹坑，水漬等；
◆ 可用于不透明及透明的材料的表面缺陷檢測；
◆ 可偵測的缺陷類型：顆粒，劃傷，突起，凹坑，水漬等；
◆ 可偵測化合物外延材料的專有外延缺陷(包含SiC外延，GaN外延)；
◆ 手動900和自動傳輸模式920；
◆ 高精度的顆粒缺陷靈敏度（80nm直徑）；
◆ 強大的自動缺陷分類、統計分布和判別軟件。缺陷分布圖以及檢測報告內的每一個缺陷都有4個頻道拍到的照片儲存在設備內部，這些照片可以輔助技術人員分析缺陷的成因及進行相關驗證。
◆ 內部的過濾器可以保證內部的潔凈環境為10級，防止內部污染的同時該儀器還能長期保持穩定準確。擁有優秀的售后服務保障體系。
◆ 手動900和自動傳輸模式920；
◆ 高精度的顆粒缺陷靈敏度（80nm直徑）；
◆ 強大的自動缺陷分類、統計分布和判別軟件。缺陷分布圖以及檢測報告內的每一個缺陷都有4個頻道拍到的照片儲存在設備內部，這些照片可以輔助技術人員分析缺陷的成因及進行相關驗證。
◆ 內部的過濾器可以保證內部的潔凈環境為10級，防止內部污染的同時該儀器還能長期保持穩定準確。擁有優秀的售后服務保障體系。
應用行業
◆ 化合物基片： SiC基片，GaN基片，Si基片
◆ 化合外延片：SiC外延片，GaN外延片
◆ 化合外延片：SiC外延片，GaN外延片