LT / S4 / S8單片電鍍設備

Classone是致力于單片電鍍設備的世界知名設備提供商, 產品涵蓋2”~ 8”主流電鍍工藝,廣泛應用于三五族(GaAs / SiC )、GaN功率及射頻器件、VCSELs器件等化合物產業,以及MEMS和Si基半導體產業。

ALD原子層沉積設備

儀器簡介: ?配置:2”~12” 手動設備/ 全自動設備(片盒對片盒) / 全自動多腔設備(片盒對片盒搭配星型平臺) ?領域 : 三五族(GaN / SiC )功率及射頻器件、VCSELs器件等化合物產業,以及MEMS和Si基半導體產業,及Mini LED / Micro LED產業等 ?ALD原子層沉積的主要材料: o氧化物:Al2O3, AlxTiyOz, HfO2, In2O3, MgO, SiO2, SrTiOx, Ta2O5, TiO2, Y2O3, ZnO, ZnO:Al, ZrO2, La2O3, CeO2, o氮化物:AlN, TiAlCN, TiN, TaNx, … o金屬:Ir, Pd, Pt, Ru, … o親水層或者疏水層:FDTS…

Plasma-therm RIE / ICP干法刻蝕設備

儀器簡介: ◆配置:2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒對片盒) /全自動多腔(片盒對片盒) ◆領域 :三五族(GaAs / SiC),GaN功率及射頻器件、VCSELs的器件等化合物產業及MEMS和Si基半導體產業等 ◆制程 : RIE / ICP

Plasma-therm HDRF干法低溫去膠去Polymer及DRIE深硅刻蝕側壁平滑設備

儀器簡介: ◆配置:2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒對片盒) / 全自動多腔(片盒對片盒) ◆領域 : MEMS和功率器件產業 ◆應用 : 低溫去膠 / 去側壁Polymer / 深孔側壁平滑

Plasma-therm DRIE深硅刻蝕設備

Plasma-Therm是致力于DRIE深硅刻蝕的世界知名設備提供商, 產品涵蓋2”~ 8”的樣片范圍,廣泛應用于MEMS等相關行業。 儀器簡介: ◆配置:2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒對片盒) /全自動多腔(片盒對片盒) ◆領域:MEMS微機電器件 ◆制程:DRIE深硅刻蝕(Bosch 工藝)

PECVD / ICPCVD薄膜沉積設備

Plasma-Therm是致力于PECVD / ICPCVD(HDPCVD)的世界知名設備提供商, 產品涵蓋2”~ 8”主流PECVD / ICPCVD(HDPCVD)薄膜生長工藝,廣泛應用于三五族(GaAs / SiC )、GaN功率及射頻器件、VCSELs器件等化合物產業及MEMS和Si基半導體產業。 儀器簡介: ◆配置:2”~8” 手動 / 半自動 / 全自動(片盒對片盒) / 全自動多腔(片盒對片盒) ◆領域 :三五族(GaAs / SiC),GaN功率及射頻器件、VCSELs的器件等化合物產業及MEMS和Si基半導體產業等 ◆制程 : PECVD / ICPCVD(HDPCVD)

Scientech濕法設備 Wet Process Machine

2002年,辛耘企業投入批次式濕製程設備研發製造,已經獲得國內外客戶採用與肯定。目前辛耘擁有 5,000㎡ 生產製造廠房,還擁有 Class 10 等級無塵室服務客戶製程驗證。產品包含手動 / 半自動 / 全自動的批次濕製程設備,提供客戶2”~12”製程應用需求。特有的 cassette type / boat type / cassette-less type 技術提供半導體晶圓、藍寶石、玻璃、太陽能晶圓、薄化晶圓等等..的應用。此外,專利產品Advantech Dry 提供客戶各種關鍵乾燥的製程應用。

T-Series水平式爐管

設備簡介: Tempress 是世界著名半導體擴散設備供應商,成立50年來已經供應超過2000套設備在半導體行業

色综合久久五月色婷婷_色五月色开心色婷婷色丁香_婷婷五月开心色婷在线